Studium vlastností tenkých vrstev Sn a SnO2 připravených plazmochemickými metodami

Study of Sn a SnO2 thin layers prepared by plasma-chemical methods

Zobrazit/otevřít

Text práce (63.18Mb)

Abstrakt (149.3Kb)

Abstrakt (anglicky) (149.3Kb)

Posudek vedoucího (375.2Kb)

Posudek oponenta (219.3Kb)

Posudek oponenta (233.1Kb)

Záznam o průběhu obhajoby (339.7Kb)

Trvalý odkaz

http://hdl.handle.net/20.500.11956/16401

Identifikátory

SIS: 43003

Katalog UK: 990010066240106986

Kolekce

• Kvalifikační práce [11981]

Autor

Strýhal, Zdeněk

Vedoucí práce

Matolín, Vladimír

Oponent práce

Šikola, Tomáš

Novák, Rudolf

Fakulta / součást

Matematicko-fyzikální fakulta

Obor

Fyzika povrchů a rozhraní

Katedra / ústav / klinika

Katedra fyziky povrchů a plazmatu

Datum obhajoby

27. 6. 2008

Nakladatel

Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta

Jazyk

Čeština

Známka

Prospěl/a

Citace dokumentu