Príprava povrchu Si(110)-Tl pre depozíciu organických molekúl
Preparation of the Si(110)-Tl surface for deposition of organic molecules
Příprava povrchu Si(110)-Tl pro depozici organických molekul
bachelor thesis (DEFENDED)

View/ Open
Permanent link
http://hdl.handle.net/20.500.11956/99887Identifiers
Study Information System: 179310
Collections
- Kvalifikační práce [10593]
Author
Advisor
Referee
Zimmermann, Petr
Faculty / Institute
Faculty of Mathematics and Physics
Discipline
General Physics
Department
Department of Surface and Plasma Science
Date of defense
26. 6. 2018
Publisher
Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakultaLanguage
Slovak
Grade
Excellent
Keywords (Czech)
STM, Si(110), Tl, 16x2, 1x1, ftalocyaninyKeywords (English)
STM, Si(110), Tl, 16x2, 1x1, phthalocyaninesTáto bakalárska práca sa zaoberá tvorbou anizotropného povrchu Si(110)-Tl, ktorý ďalej bude slúžiť ako substrát pre depozíciu organických molekúl ftalocyaninov medi. Cieľom bolo identifikovať relevantné parametre prípravy a optimalizovať výrobný proces povrchu Si(110) s rekonštrukciou (16x2), nájsť najlepšie parametre pre depozíciu tália na tento povrch tak, aby vznikol povrch Si(110)-Tl s rekonštrukciou (1x1) a otestovať vhodnosť tohto výsledného povrchu ako substrát pre ďalšiu depozíciu organických molekúl. V rámci práce je popísaná aparatúra použitá pri meraniach, sú popísané jednotlivé meracie postupy a tiež fyzikálne princípy spojené s prevádzkou STM.
This bachelor thesis deals with the formation of an anisotropic surface Si (110) -Tl, which will serve as a substrate for the deposition of organic molecules of copper phthalocyanines. The aim was to identify relevant preparation parameters and optimize the producting process of surface Si (110) with the reconstruction (16x2), to find the best parameters for deposition of thallium on this surface so as to produce a surface Si (110) -Tl with reconstruction (1x1) and test the suitability of this surface as a substrate for further deposition of organic molecules. In the course of the work, the apparatus used for measurements is described, the individual measurement procedures and the physical principles associated with STM operation are also described.