Studium počátečních fází růstu kovových vrstev postupy počítačové fyziky

Abstract

Tato práce se zabývá návrhem a použitím metody Monte Carlo pro simulaci počátečních fází růstu tenkých vrstev. Získané výsledky byly poté zpracovány za pomoci morfologických charakteristik a porovnány s experimentálními daty. V první části je popsán mechanismus růstu tenkých vrstev, metoda Monte Carlo a použité morfologické charakteristiky. Ve druhé části se nachází výsledky získané ze simulací růstu tenkých vrstev a z aplikace použitých morfologických charakteristik. Nakonec byla metoda Monte Carlo použita pro simulaci růstu tenkých vrstev při použití pulzní depozice. Tyto výsledky byly opět zpracovány pomocí morfologických charakteristik.

This thesis is focused on a design and an application of Monte Carlo method for simulation of the early stages of thin films growth. The obtained results were processed using morphological characteristics and compared with experimental data. The first part of this thesis is devoted to the mechanism of thin films growth, Monte Carlo method and a description of used morphological characteristics. In the second part of this thesis there are results obtained from the thin films growth simulation and results obtained from the use of morphological characteristics. In the end the Monte Carlo method was used for simulation of pulse deposition of thin films. Obtained results were again processed using morphological characteristics.