Preparation and Characterization of Porous Cerium Oxide/Carbon Bilayers on Silion Substrates
Příprava a charekterizace porézních dvojvrstev ceroxid/uhlík na křemíkových substrátech
dissertation thesis (DEFENDED)

View/ Open
Permanent link
http://hdl.handle.net/20.500.11956/83732Identifiers
Study Information System: 107965
CU Caralogue: 990021102250106986
Collections
- Kvalifikační práce [11587]
Author
Advisor
Consultant
Matolín, Vladimír
Referee
Jiříček, Petr
Píš, Igor
Faculty / Institute
Faculty of Mathematics and Physics
Discipline
Physics of Surfaces and Interfaces
Department
Department of Surface and Plasma Science
Date of defense
20. 9. 2016
Publisher
Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakultaLanguage
English
Grade
Pass
Keywords (Czech)
magnetronové naprašování, porézní ceroxid, dusíkem modifikovaný amorfní uhlík, ošetření kyslíkovým plazmatem, chemické složeníKeywords (English)
magnetron sputtering, porous cerium oxide, nitrogenated amorphous carbon, oxygen plasma treatment, chemical compositionPředložená doktorská práce pojednává o porézních dvojvrstvách ceroxid/uhlík na křemíku. V této souvislosti jsou zkoumány amorfní uhlíkové vrstvy (a-C) a dusíkem modifikované amorfní uhlíkové vrstvy (CNx). Je studován vliv různých parametrů při přípravě ceroxidových vrstev na morfologii finálních dvojvrstev ceroxid/uhlík. Byla nalezena korelace mezi morfologií dvojvrstvy a stechiometrií ceroxidové vrstvy prostřednictvím XPS. Dále je prezentována studie ohledně chemického složení uhlíkových vrstev pomocí různých spektroskopických metod. Bylo zjištěno, že chemické složení připravených uhlíkových vrstev silně zavisí na parametrech přípravy a ovlivnuje jejích chování při leptání v kyslíkovém plazmatu respektive při depozici ceroxidu.
This doctoral thesis concerns the preparation of porous cerium oxide/carbon bilayers on silicon substrates. In this regard, carbonaceous films in the form of amorphous carbon (a-C) and nitrogenated amorphous carbon (CNx) are considered. The influence of various process parameters of the cerium oxide deposition on the morphology of the final cerium oxide/carbon bilayer is investigated. A correlation could be found between the morphol- ogy of the bilayer and the stoichiometry of the cerium oxide film determined by means of XPS. Furthermore, a study regarding the chemical composition of the used carbonaceous films by means of various spectroscopic techniques is presented. It was found that the chemical composition of the carbonaceous films strongly depends on the deposition con- ditions of these films and influences the behaviour of these films during oxygen plasma treatment and cerium oxide deposition, respectively. 1