Study of dependence of the metal-oxide electron structure on the reactivity of these systems
Studium vlivu elektronové struktury na reaktivitu systémů oxid - kov
rigorous thesis (RECOGNIZED)

View/ Open
Permanent link
http://hdl.handle.net/20.500.11956/80198Identifiers
Study Information System: 171435
Collections
- Kvalifikační práce [10135]
Author
Faculty / Institute
Faculty of Mathematics and Physics
Discipline
Physics of Surfaces and Ionized Media
Department
Department of Surface and Plasma Science
Date of defense
9. 12. 2015
Publisher
Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakultaLanguage
English
Grade
Recognized
Keywords (Czech)
Rhodium, oxid ceru, interakce oxid-kov, oxidace CO, migrace kyslíkuKeywords (English)
Rhodium, cerium oxide, metal-oxide interaction, CO oxidation, oxygen migrationNázev práce: Studium vlivu elektronové struktury na reaktivitu systémů oxid-kov Autor: Klára Ševčíková Vedoucí práce: doc. RNDr. Václav Nehasil, Dr., Katedra fyziky povrchů a plazmatu Abstrakt Předkládaná práce je zaměřena na studium interakce rhodia a oxidu ceru a její vliv na jejich reaktivitu. Dva druhy systémů, Rh/CeOx a Rh-CeOx, byly charakterizovány pomocí metod fotoelektronové spektroskopie a teplotně programovaných reakcí. Rh/CeOx značí systém složený z rhodiových nanočástic nesených tenkou vrstvou oxidu ceru. V této práci ukazujeme, že dochází k elektronické interakci a přenosu náboje mezi rhodiem a oxidem ceru. Tato interakce závisí na míře redukce oxidu ceru, a přitom značně ovlivňuje reaktivitu celého systému. Rh-CeOx označuje tenké vrstvy oxidu ceru dopované rhodiem. V rámci této práce byly charakterizovány vlastnosti vrstev s různými koncentracemi rhodia. Ukazujeme, že struktura, složení a reaktivita těchto systémů je značně závislá na koncentraci rhodia ve vrstvě oxidu ceru.
Title: Study of dependence of the metal-oxide electron structure on the reactivity of these systems Author: Klára Ševčíková Supervisor: doc. RNDr. Václav Nehasil, Dr., Department of Surface and Plasma Science Abstract The presented thesis focuses on studying the interaction between rhodium and cerium oxide and its impact on the reactivity. We investigated two different systems, Rh/CeOx and Rh- CeOx, by means of the photoelectron spectroscopy and the temperature programmed reactions. Rh/CeOx stands for rhodium nanoparticles supported by cerium oxide thin film. We show that there is an electronic metal-substrate interaction between rhodium and cerium oxide. The type of the interaction depends on a degree of cerium oxide reduction and it has a tremendous impact on the reactivity of the system. On the other hand, Rh-CeOx represents cerium oxide thin films doped by rhodium. We characterized the properties of the films with various concentration of rhodium. We show that the morphology, chemical composition and reactivity of the samples strongly depend on the concentration of the rhodium dopant.