Studium parametrů technologického plazmatu optickými metodami

Studium parametrů technologického plazmatu optickými metodami

View/Open

Text práce (12.32Mb)

Abstrakt (79.16Kb)

Abstrakt (anglicky) (79.16Kb)

Posudek vedoucího (256.1Kb)

Posudek oponenta (496.0Kb)

Posudek oponenta (214.7Kb)

Záznam o průběhu obhajoby (278.3Kb)

Permanent link

http://hdl.handle.net/20.500.11956/4698

Identifiers

Study Information System: 42799

CU Caralogue: 990008618090106986

Collections

• Kvalifikační práce [11975]

Author

Olejníček, Jiří

Advisor

Šícha, Miloš

Referee

Liška, Miroslav

Fendrych, František

Faculty / Institute

Faculty of Mathematics and Physics

Discipline

Physics of Plasma and Ionized Media

Department

Department of Surface and Plasma Science

Date of defense

2. 5. 2006

Publisher

Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta

Language

Czech

Grade

Pass

Citace dokumentu