Nanostrukturované vrstvy na bázi plazmových polymerů

Abstract

V předložené práci studujeme růst a vlastnosti tenkých vrstev připravených za pomoci šikmé depozice magnetronovým naprašováním. Popisujeme konstrukci nízkotlakého magnetronu. Studujeme vliv depozičních podmínek na tvorbu sloupcovité struktury pomocí skenovacího elektronového mikroskopu. Popisujeme tvorbu sloupcovitých struktur z kovů, kompozitů kovplazmový polymer a plazmový polymer. Charakterizujeme vliv depozičních podmínek na povrchovou drsnost za pomoci AFM. Určujeme chemickou strukturu kompozitních a plazmově polymerních vrstev za pomoci XPS a infračervené spektroskopie.

In this thesis we have studied growth and properties of thin films prepared by tilted deposition using sputtering. The construction of low pressure magnetron is presented. The influence of deposition conditions on formation of columnar structure using scanning electron microscope was studied. Formation of columnar structures of metals, composites metal-plasma polymer and plasma polymer is described. The influence of deposition conditions on surface roughness obtained by AFM is discussed. Chemical structure of composite and plasma polymer films has been determined using XPS and infrared spectroscopy.