A study of diagnostic systems for plasma sources designed for deposition of thin films (with an applicaton in plasma chemistry)

Studium diagnostických systémů pro plazmové zdroje určené pro depozice tenkých vrstev ( s aplikací v plazmochemii)

View/Open

Text práce (3.500Mb)

Abstrakt (79.16Kb)

Abstrakt (anglicky) (79.16Kb)

Posudek vedoucího (73.32Kb)

Posudek oponenta (131.3Kb)

Posudek oponenta (83.11Kb)

Posudek oponenta (95.80Kb)

Záznam o průběhu obhajoby (107.1Kb)

Permanent link

http://hdl.handle.net/20.500.11956/24286

Identifiers

Study Information System: 42571

CU Catalogue: 001219604

Collections

• Kvalifikační práce [9075]

Author

Virostko, Petr

Advisor

Tichý, Milan

Referee

Pavlík, Jaroslav

Biederman, Hynek

Zajíčková, Lenka

Faculty / Institute

Faculty of Mathematics and Physics

Discipline

Physics of Plasma and Ionized Media

Department

Department of Surface and Plasma Science

Date of defense

11. 1. 2010

Publisher

Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta

Language

English

Grade

Pass

Keywords

Keywords not found

Citace dokumentu