Ablace materiálů fokusovaným zářením XUV laserů

Ablace materiálů fokusovaným zářením XUV laserů

View/Open

Text práce (2.924Mb)

Abstrakt (79.16Kb)

Abstrakt (anglicky) (79.16Kb)

Posudek vedoucího (236.9Kb)

Posudek oponenta (302.3Kb)

Posudek oponenta (299.1Kb)

Záznam o průběhu obhajoby (343.9Kb)

Permanent link

http://hdl.handle.net/20.500.11956/12613

Identifiers

Study Information System: 40815

Collections

• Kvalifikační práce [11242]

Author

Bittner, Michal

Advisor

Wild, Jan

Referee

Limpouch, Jiří

Zelinger, Zdeněk

Faculty / Institute

Faculty of Mathematics and Physics

Discipline

Physics of Plasma and Ionized Media

Department

Department of Surface and Plasma Science

Date of defense

21. 9. 2007

Publisher

Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta

Language

Czech

Grade

Pass

Citace dokumentu