Interakcia molekúl plynu s povrchmi oxidov pokrytých vrstvou vanádu

Abstract

Práce se zabývá výzkumem modelového systému tenké vanadové vrstvy. Vzorky byly připraveny napařením vanadu na vrstvu oxidu ceru. Složení vzorku bylo sledováno pomocí rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS). Vzorky byly vystaveny molekulárním svazkům (MB) CO a O2 s cílem studovat adsorpci plynů a produktivitu CO2. Měření průběhu reakcí pomocí hmotnostních spekter snímaných kvadrupólovým hmotnostním spektrometrem (QMS) neukázala žádné známky oxidační reakce. Pomocí spekter XPS byla zjištěna tendence vanadu tvořit při interakci s CO a O2 karbid a oxidy.

The project researches a thin vanadium layer model system. The samples were prepared by vapour-deposition of vanadium on support layer of cerium oxide. The surface composition of samples was monitored by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The samples were exposed to CO and O2 molecular beams (MB), in order to measure gas adsorption and CO2 production. In the course of reaction measurements by quadrupole mass spectroscopy (QMS) exhibited no signs of oxidative reaction. The XPS spectra show the tendency of vanadium to interact with CO and O2 forming carbide and oxide.