Show simple item record

Contacting nanostructures for sensor measurements
dc.contributor.advisorMatolínová, Iva
dc.creatorChlupová, Šárka
dc.date.accessioned2017-05-27T09:03:25Z
dc.date.available2017-05-27T09:03:25Z
dc.date.issued2014
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.11956/69146
dc.description.abstractNázev práce: Kontaktování nanostruktur pro senzorická měření Autor: Šárka Chlupová Katedra: Katedra fyziky povrchů a plazmatu Vedoucí bakalářské práce: Doc. Mgr. Iva Matolínová, Dr., Katedra fyziky povrchů a plazmatu Abstrakt: Předložená bakalářská práce se zabývá kontaktováním nanostruktur pomocí elektronové litografie (EBL). Práce probíhala ve skenovacím elektronovém mikroskopu na nevodivém slídovém substrátu s nanotyčkami WOx na povrchu za účelem přípravy senzoru pro detekci H2. V rámci tohoto experimentu byly modifikovány parametry pro jednotlivé dílčí procesy EBL. Byly vybrány optimální tloušťky rezistů PMMA 120K(5% anisol) a PMMA 996K(1% anisol) tak, aby k přípravě masky pro EBL mohl být použit vícevrstvý rezist. Na vzniklém dvouvrstvém rezistu byly optimalizovány expoziční dávky elektronovým svazkem. Byla vybrána vhodná dávka pro matrici navrženou ke kontaktování nanotyček WOx nesených na slídě. Ke kontaktování nanostruktur byly nejdříve na povrch slídy deponovány makrokontakty a na nich pak proběhl proces EBL. Jeho výsledkem bylo vodivé propojení wolframoxidových nanotyček pomocí vytvořených nanokontaktů s makrokontakty. U takto nakontaktovaného senzoru byly následně úspěšně testovány jeho senzorické vlastnosti pomocí H2. Klíčová slova: Senzor, nanotyčky WOx, Elektronová litografiecs_CZ
dc.description.abstractTitle: Contacting nanostructures for sensor measurements Author: Šárka Chlupová Department: Department of Surface and Plasma Science Supervisor: Doc. Mgr. Iva Matolínová, Dr., Department of Surface and Plasma Science Abstract: The bachelor thesis is dealing with contacting nanostructures using electron beam lithography (EBL). Work was carried out in a scanning electron microscope on a mica dielectric substrate with WOx nanorods on the surface in order to prepare a sensor for the detection of H2. In this experiment, parameters for individual sub- processes of EBL were modified. Optimal thicknesses of the PMMA resist 120K (5% anisole) and PMMA 996K (1% anisole) were selected to prepare multilayer resist for an EBL mask. On the resulting bilayer resist electron beam exposure doses were optimized. The appropriate dose was selected and used for creating a matrix designed to contact the WOx nanorods supported on mica. To contact the nanostructures, macrocontacts were deposited on the surface of mica at first, and then the EBL process ran. The result was a conductive connection of the tungsten oxide nanorods by created nanocontacts with macrocontacts. Sensoric properties of the sensor in this way contacted were subsequently successfully tested with H2. Keywords: Sensor, WOx nanorods, Electron beam lithografhyen_US
dc.languageČeštinacs_CZ
dc.language.isocs_CZ
dc.publisherUniverzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakultacs_CZ
dc.titleKontaktování nanostruktur pro senzorická měřenícs_CZ
dc.typebakalářská prácecs_CZ
dcterms.created2014
dcterms.dateAccepted2014-09-09
dc.description.departmentDepartment of Surface and Plasma Scienceen_US
dc.description.departmentKatedra fyziky povrchů a plazmatucs_CZ
dc.description.facultyMatematicko-fyzikální fakultacs_CZ
dc.description.facultyFaculty of Mathematics and Physicsen_US
dc.identifier.repId147294
dc.title.translatedContacting nanostructures for sensor measurementsen_US
dc.contributor.refereeDvořák, Filip
dc.identifier.aleph001851660
thesis.degree.nameBc.
thesis.degree.levelbakalářskécs_CZ
thesis.degree.disciplineAplikovaná fyzikacs_CZ
thesis.degree.disciplineApplied Physicsen_US
thesis.degree.programFyzikacs_CZ
thesis.degree.programPhysicsen_US
uk.thesis.typebakalářská prácecs_CZ
uk.taxonomy.organization-csMatematicko-fyzikální fakulta::Katedra fyziky povrchů a plazmatucs_CZ
uk.taxonomy.organization-enFaculty of Mathematics and Physics::Department of Surface and Plasma Scienceen_US
uk.faculty-name.csMatematicko-fyzikální fakultacs_CZ
uk.faculty-name.enFaculty of Mathematics and Physicsen_US
uk.faculty-abbr.csMFFcs_CZ
uk.degree-discipline.csAplikovaná fyzikacs_CZ
uk.degree-discipline.enApplied Physicsen_US
uk.degree-program.csFyzikacs_CZ
uk.degree-program.enPhysicsen_US
thesis.grade.csVelmi dobřecs_CZ
thesis.grade.enVery gooden_US
uk.abstract.csNázev práce: Kontaktování nanostruktur pro senzorická měření Autor: Šárka Chlupová Katedra: Katedra fyziky povrchů a plazmatu Vedoucí bakalářské práce: Doc. Mgr. Iva Matolínová, Dr., Katedra fyziky povrchů a plazmatu Abstrakt: Předložená bakalářská práce se zabývá kontaktováním nanostruktur pomocí elektronové litografie (EBL). Práce probíhala ve skenovacím elektronovém mikroskopu na nevodivém slídovém substrátu s nanotyčkami WOx na povrchu za účelem přípravy senzoru pro detekci H2. V rámci tohoto experimentu byly modifikovány parametry pro jednotlivé dílčí procesy EBL. Byly vybrány optimální tloušťky rezistů PMMA 120K(5% anisol) a PMMA 996K(1% anisol) tak, aby k přípravě masky pro EBL mohl být použit vícevrstvý rezist. Na vzniklém dvouvrstvém rezistu byly optimalizovány expoziční dávky elektronovým svazkem. Byla vybrána vhodná dávka pro matrici navrženou ke kontaktování nanotyček WOx nesených na slídě. Ke kontaktování nanostruktur byly nejdříve na povrch slídy deponovány makrokontakty a na nich pak proběhl proces EBL. Jeho výsledkem bylo vodivé propojení wolframoxidových nanotyček pomocí vytvořených nanokontaktů s makrokontakty. U takto nakontaktovaného senzoru byly následně úspěšně testovány jeho senzorické vlastnosti pomocí H2. Klíčová slova: Senzor, nanotyčky WOx, Elektronová litografiecs_CZ
uk.abstract.enTitle: Contacting nanostructures for sensor measurements Author: Šárka Chlupová Department: Department of Surface and Plasma Science Supervisor: Doc. Mgr. Iva Matolínová, Dr., Department of Surface and Plasma Science Abstract: The bachelor thesis is dealing with contacting nanostructures using electron beam lithography (EBL). Work was carried out in a scanning electron microscope on a mica dielectric substrate with WOx nanorods on the surface in order to prepare a sensor for the detection of H2. In this experiment, parameters for individual sub- processes of EBL were modified. Optimal thicknesses of the PMMA resist 120K (5% anisole) and PMMA 996K (1% anisole) were selected to prepare multilayer resist for an EBL mask. On the resulting bilayer resist electron beam exposure doses were optimized. The appropriate dose was selected and used for creating a matrix designed to contact the WOx nanorods supported on mica. To contact the nanostructures, macrocontacts were deposited on the surface of mica at first, and then the EBL process ran. The result was a conductive connection of the tungsten oxide nanorods by created nanocontacts with macrocontacts. Sensoric properties of the sensor in this way contacted were subsequently successfully tested with H2. Keywords: Sensor, WOx nanorods, Electron beam lithografhyen_US
uk.file-availabilityV
uk.publication.placePrahacs_CZ
uk.grantorUniverzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta, Katedra fyziky povrchů a plazmatucs_CZ


Files in this item

Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record


© 2017 Univerzita Karlova, Ústřední knihovna, Ovocný trh 560/5, 116 36 Praha 1; email: admin-repozitar [at] cuni.cz

Za dodržení všech ustanovení autorského zákona jsou zodpovědné jednotlivé složky Univerzity Karlovy. / Each constituent part of Charles University is responsible for adherence to all provisions of the copyright law.

Upozornění / Notice: Získané informace nemohou být použity k výdělečným účelům nebo vydávány za studijní, vědeckou nebo jinou tvůrčí činnost jiné osoby než autora. / Any retrieved information shall not be used for any commercial purposes or claimed as results of studying, scientific or any other creative activities of any person other than the author.

DSpace software copyright © 2002-2015  DuraSpace
Theme by 
@mire NV