Studium adsorpce na in-situ naprašovaných vrstvách oxidu céru metodami fotoelektronové spektroskopie

Abstract

V průběhu této práce byly metodou magnetronového naprašování připravovány vrstvy CeOx na grafitové fólii a křemíkovém monokrystalu. Vzorky byly in situ charakterizovány metodou rentgenové fotoelektronové spektroskopie a poté vystaveny vlivu atmosféry. Byly pozorovány vlivy substrátu, vzdálenosti terč substrát a doby naprašování na výslednou stechiometrii vrstvy. Bylo zjištěno, že expozici na atmosféře dochází k redukci připravených vrstev. Redukce byla výraznější na vrstvách připravených na grafitové fólii a naprašovaných z větší vzdálenosti.

During this work CeOx films were prepared by magnetron sputtering on a graphite foil and a monocrystalline silicon wafer. Samples were characterised by the method of x-ray photoelectron spectroscopy in situ and then exposed to effects of the atmosphere. Influences of substrate, target substrate distance and duration of sputtering on stoichiometry of prepared films were observed. It was found out, that exposition to atmosphere reduces prepared films. Reduction was higher on films prepared on graphite foil and sputtered from greater distance.