Show simple item record

Electron lithography in scanning electron microscope
dc.contributor.advisorMatolín, Vladimír
dc.creatorHaviar, Stanislav
dc.date.accessioned2017-04-21T06:18:39Z
dc.date.available2017-04-21T06:18:39Z
dc.date.issued2010
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.11956/30631
dc.description.abstractV práci je popsána aplikace metody elektronové litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu Tescan Miran LMH. Jsou v ní uvedeny parametry pro přípravu kovových a oxidových (SnO2, WOx) struktur o charakteristických rozměrech pod 100 nm a postup jejich optimalizace. Osvětlena je příprava čtvercových sítí samostatných kovových teček s periodou pod 1 µm. Litografie probíhala na vlastních připravených rezistových vrstvách polymethylmetakrylátu o tloušťce < 25 nm, parametry přípravy jsou také uvedeny. V závěru je popsána příprava modelového prototypu senzoru tvořeného makroskopickými zlatými kontakty a dráty s průměrem do 200 nm z oxidů kovů (SnO2). Struktury byly zkoumány metodou řádkovací elektronové mikroskopie a mikroskopie atomárních sil.cs_CZ
dc.description.abstractElectron beam lithography in a scanning electron microscope Tescan Miran LMH is described. Detailed parametres of preparation procedure of metal structures with characteristic dimensions below 100 nm were obtained. Additionally, a preparation of square arrays of sub 100-nm metal dots with 1 µm periode is being discussed. The lithography was performend with self-prepared resist layers (thickness < 25 nm), parameters of the spin-coating procedure are listed as well. A construction of a model single-wire sensor is described. The sensor had macroscopic gold contacts with thin (< 200 nm) tin oxide wires in between. The structures were investigated by means of scanning electron microscopy and atomic force microscopy.en_US
dc.languageČeštinacs_CZ
dc.language.isocs_CZ
dc.publisherUniverzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakultacs_CZ
dc.titleElektronová litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopucs_CZ
dc.typediplomová prácecs_CZ
dcterms.created2010
dcterms.dateAccepted2010-05-17
dc.description.departmentDepartment of Surface and Plasma Scienceen_US
dc.description.departmentKatedra fyziky povrchů a plazmatucs_CZ
dc.description.facultyFaculty of Mathematics and Physicsen_US
dc.description.facultyMatematicko-fyzikální fakultacs_CZ
dc.identifier.repId62231
dc.title.translatedElectron lithography in scanning electron microscopeen_US
dc.contributor.refereeLopour, Filip
dc.identifier.aleph001386895
thesis.degree.nameMgr.
thesis.degree.levelnavazující magisterskécs_CZ
thesis.degree.disciplineFyzika povrchů a ionizovaných prostředícs_CZ
thesis.degree.disciplinePhysics of Surfaces and Ionized Mediaen_US
thesis.degree.programFyzikacs_CZ
thesis.degree.programPhysicsen_US
uk.faculty-name.csMatematicko-fyzikální fakultacs_CZ
uk.faculty-name.enFaculty of Mathematics and Physicsen_US
uk.faculty-abbr.csMFFcs_CZ
uk.degree-discipline.csFyzika povrchů a ionizovaných prostředícs_CZ
uk.degree-discipline.enPhysics of Surfaces and Ionized Mediaen_US
uk.degree-program.csFyzikacs_CZ
uk.degree-program.enPhysicsen_US
thesis.grade.csVýborněcs_CZ
thesis.grade.enExcellenten_US
uk.abstract.csV práci je popsána aplikace metody elektronové litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu Tescan Miran LMH. Jsou v ní uvedeny parametry pro přípravu kovových a oxidových (SnO2, WOx) struktur o charakteristických rozměrech pod 100 nm a postup jejich optimalizace. Osvětlena je příprava čtvercových sítí samostatných kovových teček s periodou pod 1 µm. Litografie probíhala na vlastních připravených rezistových vrstvách polymethylmetakrylátu o tloušťce < 25 nm, parametry přípravy jsou také uvedeny. V závěru je popsána příprava modelového prototypu senzoru tvořeného makroskopickými zlatými kontakty a dráty s průměrem do 200 nm z oxidů kovů (SnO2). Struktury byly zkoumány metodou řádkovací elektronové mikroskopie a mikroskopie atomárních sil.cs_CZ
uk.abstract.enElectron beam lithography in a scanning electron microscope Tescan Miran LMH is described. Detailed parametres of preparation procedure of metal structures with characteristic dimensions below 100 nm were obtained. Additionally, a preparation of square arrays of sub 100-nm metal dots with 1 µm periode is being discussed. The lithography was performend with self-prepared resist layers (thickness < 25 nm), parameters of the spin-coating procedure are listed as well. A construction of a model single-wire sensor is described. The sensor had macroscopic gold contacts with thin (< 200 nm) tin oxide wires in between. The structures were investigated by means of scanning electron microscopy and atomic force microscopy.en_US
uk.publication.placePrahacs_CZ
uk.grantorUniverzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta, Katedra fyziky povrchů a plazmatucs_CZ


Files in this item

Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail
Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record


© 2017 Univerzita Karlova, Ústřední knihovna, Ovocný trh 3-5, 116 36 Praha; email: admin-repozitar [at] cuni.cz

Za dodržení všech ustanovení autorského zákona jsou zodpovědné jednotlivé složky Univerzity Karlovy. / Each constituent part of Charles University is responsible for adherence to all provisions of the copyright law.

Upozornění / Notice: Získané informace nemohou být použity k výdělečným účelům nebo vydávány za studijní, vědeckou nebo jinou tvůrčí činnost jiné osoby než autora. / Any retrieved information shall not be used for any commercial purposes or claimed as results of studying, scientific or any other creative activities of any person other than the author.

DSpace software copyright © 2002-2015  DuraSpace
Theme by 
@mire NV