dc.contributor.advisor | Matolín, Vladimír | |
dc.creator | Haviar, Stanislav | |
dc.date.accessioned | 2017-04-21T06:18:39Z | |
dc.date.available | 2017-04-21T06:18:39Z | |
dc.date.issued | 2010 | |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/20.500.11956/30631 | |
dc.description.abstract | V práci je popsána aplikace metody elektronové litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu Tescan Miran LMH. Jsou v ní uvedeny parametry pro přípravu kovových a oxidových (SnO2, WOx) struktur o charakteristických rozměrech pod 100 nm a postup jejich optimalizace. Osvětlena je příprava čtvercových sítí samostatných kovových teček s periodou pod 1 µm. Litografie probíhala na vlastních připravených rezistových vrstvách polymethylmetakrylátu o tloušťce < 25 nm, parametry přípravy jsou také uvedeny. V závěru je popsána příprava modelového prototypu senzoru tvořeného makroskopickými zlatými kontakty a dráty s průměrem do 200 nm z oxidů kovů (SnO2). Struktury byly zkoumány metodou řádkovací elektronové mikroskopie a mikroskopie atomárních sil. | cs_CZ |
dc.description.abstract | Electron beam lithography in a scanning electron microscope Tescan Miran LMH is described. Detailed parametres of preparation procedure of metal structures with characteristic dimensions below 100 nm were obtained. Additionally, a preparation of square arrays of sub 100-nm metal dots with 1 µm periode is being discussed. The lithography was performend with self-prepared resist layers (thickness < 25 nm), parameters of the spin-coating procedure are listed as well. A construction of a model single-wire sensor is described. The sensor had macroscopic gold contacts with thin (< 200 nm) tin oxide wires in between. The structures were investigated by means of scanning electron microscopy and atomic force microscopy. | en_US |
dc.language | Čeština | cs_CZ |
dc.language.iso | cs_CZ | |
dc.publisher | Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta | cs_CZ |
dc.title | Elektronová litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu | cs_CZ |
dc.type | diplomová práce | cs_CZ |
dcterms.created | 2010 | |
dcterms.dateAccepted | 2010-05-17 | |
dc.description.department | Department of Surface and Plasma Science | en_US |
dc.description.department | Katedra fyziky povrchů a plazmatu | cs_CZ |
dc.description.faculty | Faculty of Mathematics and Physics | en_US |
dc.description.faculty | Matematicko-fyzikální fakulta | cs_CZ |
dc.identifier.repId | 62231 | |
dc.title.translated | Electron lithography in scanning electron microscope | en_US |
dc.contributor.referee | Lopour, Filip | |
dc.identifier.aleph | 001386895 | |
thesis.degree.name | Mgr. | |
thesis.degree.level | navazující magisterské | cs_CZ |
thesis.degree.discipline | Fyzika povrchů a ionizovaných prostředí | cs_CZ |
thesis.degree.discipline | Physics of Surfaces and Ionized Media | en_US |
thesis.degree.program | Fyzika | cs_CZ |
thesis.degree.program | Physics | en_US |
uk.thesis.type | diplomová práce | cs_CZ |
uk.taxonomy.organization-cs | Matematicko-fyzikální fakulta::Katedra fyziky povrchů a plazmatu | cs_CZ |
uk.taxonomy.organization-en | Faculty of Mathematics and Physics::Department of Surface and Plasma Science | en_US |
uk.faculty-name.cs | Matematicko-fyzikální fakulta | cs_CZ |
uk.faculty-name.en | Faculty of Mathematics and Physics | en_US |
uk.faculty-abbr.cs | MFF | cs_CZ |
uk.degree-discipline.cs | Fyzika povrchů a ionizovaných prostředí | cs_CZ |
uk.degree-discipline.en | Physics of Surfaces and Ionized Media | en_US |
uk.degree-program.cs | Fyzika | cs_CZ |
uk.degree-program.en | Physics | en_US |
thesis.grade.cs | Výborně | cs_CZ |
thesis.grade.en | Excellent | en_US |
uk.abstract.cs | V práci je popsána aplikace metody elektronové litografie v řádkovacím elektronovém mikroskopu Tescan Miran LMH. Jsou v ní uvedeny parametry pro přípravu kovových a oxidových (SnO2, WOx) struktur o charakteristických rozměrech pod 100 nm a postup jejich optimalizace. Osvětlena je příprava čtvercových sítí samostatných kovových teček s periodou pod 1 µm. Litografie probíhala na vlastních připravených rezistových vrstvách polymethylmetakrylátu o tloušťce < 25 nm, parametry přípravy jsou také uvedeny. V závěru je popsána příprava modelového prototypu senzoru tvořeného makroskopickými zlatými kontakty a dráty s průměrem do 200 nm z oxidů kovů (SnO2). Struktury byly zkoumány metodou řádkovací elektronové mikroskopie a mikroskopie atomárních sil. | cs_CZ |
uk.abstract.en | Electron beam lithography in a scanning electron microscope Tescan Miran LMH is described. Detailed parametres of preparation procedure of metal structures with characteristic dimensions below 100 nm were obtained. Additionally, a preparation of square arrays of sub 100-nm metal dots with 1 µm periode is being discussed. The lithography was performend with self-prepared resist layers (thickness < 25 nm), parameters of the spin-coating procedure are listed as well. A construction of a model single-wire sensor is described. The sensor had macroscopic gold contacts with thin (< 200 nm) tin oxide wires in between. The structures were investigated by means of scanning electron microscopy and atomic force microscopy. | en_US |
uk.publication.place | Praha | cs_CZ |
uk.grantor | Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta, Katedra fyziky povrchů a plazmatu | cs_CZ |
dc.identifier.lisID | 990013868950106986 | |